Huawei-nin 2 nanometr sinifli çip istehsalına nail olmaq üçün DUV litografi avadanlığından i kostifadə etməsi ilə bağlı yeni patent müraciəti, şirkətin sanksiyalar altında inkişaf etmiş çip istehsalını davam etdirmək əzmini açıq şəkildə nümayiş etdirir. Bu addım, Huawei-nin ABŞ-ın tətbiq etdiyi ticarət məhdudiyyətlərinə qarşı müqavimətinin və texnoloji müstəqilliyə nail olmaq səylərinin bir göstəricisidir.
Redaksiya məlumat verir ki, Huawei, EUV (Extreme Ultraviolet) maşınlarına tətbiq edilən geniş ixrac məhdudiyyətləri səbəbindən ASML-nin inkişaf etmiş sistemlərinə çıxış əldə edə bilməsə də, istehsal tərəfdaşı SMIC ilə birlikdə mövcud infrastrukturun imkanlarını son həddə qədər sınayır. Yeni patent, şirkətin DUV (Deep Ultraviolet) litografi texnologiyası vasitəsilə 2 nanometr sinifli çip istehsalına nail olmaq planlarını əks etdirir.DUV litografi, çip istehsalında istifadə olunan bir texnologiyadır və daha kiçik ölçülərə malik çiplərin istehsalına imkan verir. Bu, həm də şirkətin ABŞ-ın tətbiq etdiyi sanksiyalara qarşı mübarizəsinin bir hissəsidir, çünki EUV avadanlığına çıxış məhdudlaşdırılıb.Huawei-nin yeni patent müraciəti, şirkətin çip istehsalı sahəsindəki uzunmüddətli planlarını və strategiyalarını əks etdirir. Bu, şirkətin yalnız çip istehsalı deyil, həm də digər texnoloji sahələrdə də liderlik mövqeyini qorumaq istəyini göstərir. Bu, həm də Çin texnologiya sektorunun inkişafı üçün mühüm bir addımdır.
